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1. 常壓電漿清潔設備

．多項專利設計
．電漿效率高、處理速度快、清潔效能優異
．處理均勻性佳
．可使用氣體：N、Air
．操作成本低
．無污染
．無靜電殘留
．無arc
．可依據客戶需求作修改
． LCD或OLED的玻璃清潔
． PCB之表面清潔、活化、改質或去殘膠
．晶圓之表面清潔或去光阻
．工業電子元件之表面清潔、活化或改質
．印刷或黏著前之表面粗化或清潔

2. Si-Plasma常壓電漿單元

功能
●各式材料之表面清潔、活化或改質
●增加黏著或附著性
●提升元件封裝、黏著或印刷之可靠度
●操作簡單，可調整電漿功率、處理距離、清潔速度及氣體種類等
●可清潔物品材質: 玻璃、塑膠、金屬、陶瓷、橡膠等

特色
●多項專利設計
●清潔效能優異、處理速度快
●多種噴頭選擇，清潔範圍 3~30mm
●可使用氣體：N2、Air、Ar、O2等氣體
●不需暖機，可隨時啟動及停止
●可in-line或off-line操作
●操作成本低
●無污染
●無靜電殘留
●無arc
●體積小，容易安裝及維護
●可依據客戶需求作修改

應用產業
●STN-LCD、TFT-LCD、OLED或PDP之COG或OLB制程前的ITO電極表面清潔
●COF (ILB) 或COB制程的電極表面清潔
●LCD或OLED的玻璃清潔
●IC封裝（Flip Chip, CSP, BGA, TCP, or Lead Frame, etc.）或LED封裝的表面清潔或改質
●PCB之表面清潔、活化、改質或去殘膠
●晶圓之表面清潔或去光阻
●工業電子元件之表面清潔、活化或改質
●印刷或黏著前之表面粗化或清潔
●鍍膜、去光阻及蝕刻

3. 電漿化學氣相沉積系統

．高密度電漿源
．鍍膜均勻性佳
．可使用多種製程氣體
．全自動且容易操作
．可依據客戶需求作修改

4. 電漿去光阻機

．高密度電漿源
電漿效率高
可控制低的離子能量
結合化學反應性及物理撞擊性
．處理均勻性佳
．離子能量低，不損傷基板
．可使用多種製程氣體
．全自動且容易操作
．容易維護
．可依據客戶需求作修改

5. Si-Plasma

1.Atmospheric Pressure Plasma Equipments and Vacuum System for PCB, FPC, LCD, LCM, IC Packaging, LED Packaging process.

2.Dlamond like Carbon (DLC) Film Deposltions-on Optical, Optoelectronics and IC molds, plastic optical components and ...